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为了进一步了解电子的散射机制，自动中国本工作研究了四探针器件的温度依赖性迁移率特性。发展相关成果以题为RemotemodulationdopinginvanderWaalsheterostructuretransistors发表在了Natureelectronics上。

替代掺杂在体半导体中普遍存在，探讨在二维半导体中也得到了广泛的研究。自动中国二维半导体中的掺杂可以通过元素的原子替换或分子表面的电荷转移来实现。此外，发展带电杂质散射降低了器件性能，如迁移率，限制了高速2D电子的实际应用。

探讨通过温度依赖的电学表征证实了迁移率增强(可达18倍)和杂质散射抑制的输运特性。作者注意到，自动中国由于WSe2和MoS2之间的三层hBN足够薄，可以实现电荷载流子的隧穿，hBN的插入并不会影响WSe2/MoS2异质结中的电荷转移和由此产生的PL猝灭。

图文解析一、发展用于远程掺杂的带调制vdW异质结构。

在分子掺杂前，探讨两种器件在VBG=70V处表现出类似的温度依赖性迁移率行为，探讨迁移率随着温度降低而增大，在100K达到最高，这表明电荷传输受到声子散射的限制。PtSA/Cs2SnI6中的Cs2SnI6对HI水溶液的耐受性大大增强，自动中国这对于在钙钛矿基HI裂解体系中实现良好的光催化稳定性非常重要。

近年来，发展有机-无机卤化铅钙钛矿(OLHPs)，如MAPbI3 (MA=CH3NH3)，具有合成方便、成本低、光电性能优异等优点，已被证明是一种有前途的制氢光催化剂。卤化物钙钛矿由于其固有的低温结晶特性而具有大量的缺陷，探讨可能是锚定金属原子和稳定单原子实现大幅增强光催化性能的理想支架。

自动中国i.PtSA/Cs2SnI6的XPSPt4f高分辨图谱。发展Cs2SnI6粉体的紫外-可见吸收光谱。